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O objetivo da Epson é promover jovens criadores que incorporam o processo de sublimação em suas coleções, oferecendo uma chance de divulgação de seu trabalho paralelamente à Semana de Moda. O objetivo da Epson é promover jovens criadores que incorporam o processo de sublimação em suas coleções, oferecendo uma chance de divulgação de seu trabalho paralelamente à Semana de Moda.
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Epson promove evento de moda em New York

Concurso leva novo talento da moda brasileira, aluna do IED São Paulo, e representantes de outros nove países

 


A Epson, líder mundial em impressão, projeção e imagem digital, promove evento de moda no dia 10 de fevereiro que antecede a temporada de inverno da conceituada New York Fashion Week (NYFW) – reforçando seu posicionamento em prover impressão através do método de sublimação pelas impressoras de grande formato.

O evento intitulado Digital Couture Project – EPSON NYFW 2015 é uma promoção regional da Epson para todas as Américas. Nela, um promissor criador de cada País foi escolhido para desenvolver uma coleção envolvendo estamparia, que será apresentada em desfile paralelamente à Semana de Moda de Nova York.

A representante do Brasil será Mariana Morrell, aluna da graduação em Design de Moda do Istituto Europeo di Design – IED São Paulo. Ela foi selecionada após um concurso realizado exclusivamente entre os alunos da instituição. Entre os critérios de avaliação, foram levados em conta a qualidade de aplicação da estampa na sublimação, a criatividade e a visão avant-garde do estilista, bem como seu portfolio.


Para o evento, a estilista criou a coleção ‘Swag & Cozy’, com um conceito de vestimentas unissex multifuncionais e inspirada na cultura hip-hop – desenvolvidas para serem confortáveis, fácil de vestir e de manuseio simples. As peças desmontam e assumem outras junções – jaquetas que viram mochilas, cachecóis; calças que se tornam moletons, entre muitas outras propostas.

“A estética dos guetos de Nova Iorque veio para trazer o tom certo para a coleção ”, explica Morrell. As estampas foram criadas com a tecnologia das impressoras de sublimação Epson, a partir de multiplas fotos sobrepostas de cidades como São Paulo e Nova Iorque. Foram produzidas 5 estampas diferentes para os 6 looks do desfile.

“A sinergia entre moda e tecnologia de impressão digital tem aberto novas oportunidades, proporcionando ao desenho uma criatividade sem limites, à confecção uma produtividade jamais antes vista, e aos resultados finais um nível de detalhe preciso e uma qualidade ainda melhor”, explica Agustín Chacón, VP de Vendas e Operações das subsidirárias Latino Americanas.

 

Os estilistas e/ou marcas que apresentarão suas coleções de sublimação digital na cidade de Nova Iorque são: Pilar Briceño (Colômbia), Dual (Costa Rica), Ay Not Dead (Argentina), Moah Saldaña (Peru), Marco Antonio Farías (Chile), María Elisa Guillén (Equador), Pineda Covalin (México), Mariana Morrell (Brasil), Leonor Silva, representando o Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry (Costa Oeste dos Estados Unidos Costa) e ESOSA (Costa Leste dos Estados Unidos).

A Epson definiu o tema do evento “O Futuro da Moda”, que deve permear todas as coleções apresentadas. São esperadas mais de 200 pessoas do mundo da moda e da indústria têxtil, inclusive com a presença de celebridades do segmento, para conferir os 11 desfiles.


Os estilistas e/ou marcas que apresentarão suas coleções de sublimação digital na cidade de Nova Iorque são: Pilar Briceño (Colômbia), Dual (Costa Rica), Ay Not Dead (Argentina), Moah Saldaña (Peru), Marco Antonio Farías (Chile), María Elisa Guillén (Equador), Pineda Covalin (México), Mariana Morrell (Brasil), Leonor Silva, representando o Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry (Costa Oeste dos Estados Unidos Costa) e ESOSA (Costa Leste dos Estados Unidos).

A Epson aposta nestes artistas e na tecnologia de sublimação digital, que se posiciona como uma nova tendência na indústria têxtil, imprimindo às suas criações detalhes finos, com cores vivas e perduráveis, oferecendo uma versatilidade criativa e funcional  reconhecida  por  estilistas do mundo inteiro.

O objetivo da Epson é promover jovens criadores que incorporam o processo de sublimação em suas coleções, oferecendo uma chance de divulgação de seu trabalho paralelamente à Semana de Moda.

Também é uma oportunidade de disseminar a tecnologia Epson de Sublimação Digital dentro do segmento fashion e apresentar os produtos Epson SureColor® série F aos mais exigentes críticos, estilistas, editores, jornalistas e profissionais do mundo da moda, marcando uma nova tendência nas passarelas de Nova Iorque onde a tecnologia e o desenho unem-se para deslumbrar. As impressoras Epson SureColor Serie F permitem aos estilistas dar vida às suas criações de maneira acessível e com a qualidade que distingue à marca Epson.

Confira o hotsite do evento:
http://global.latin.epson.com/br/Micrositios/NYFashionweek

 

Mariana Morrell é paulistana e tem 21 anos. Está atualmente no sétimo semestre da graduação em Design de Moda do Istituto Europeo di Design – IED São Paulo.

 

Sobre Mariana Morrell:

Mariana Morrell é paulistana e tem 21 anos. Está atualmente no sétimo semestre da graduação em Design de Moda do Istituto Europeo di Design – IED São Paulo. Tipicamente brasileira, começou a trabalhar muito cedo com criação, confeccionando vestidos de festa e casacos. Iniciou carreira na Osklen, o que influenciou muito seu estilo. Atualmente integra a área de estilo da John John

Última modificação em Terça, 23 Junho 2015 21:57
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